所属系列：ZJYQ-ZYQCLJD-HITACHI
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离子溅射仪MC1000规格：
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项目 |
说明 |
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放电 |
类型 |
磁控二管放电型(电场垂直于磁场) |
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电组成 |
反向平行盘(嵌入磁铁) |
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电压 |
大 0.4 kV DC(直流可变) |
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电流 |
大 40 mA DC |
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喷镀速率 *1(大) |
Pt 靶(选配件) |
15 nm/min |
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Pt-Pd 靶(选配件) |
20 nm/min |
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Au 靶(选配件) |
35 nm/min |
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Au-Pd 靶(选配件) |
25 nm/min |
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样品尺寸 |
大直径 |
φ60 mm |
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大高度 |
20 mm |
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机械泵 |
135/162 l/min (50/60Hz) |
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靶材*2 |
Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) |
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电源要求 |
单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m) |
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尺寸 |
宽度 |
450 mm |
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长度 |
391 mm |
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高度 |
390 mm |
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重量 |
主机：约 22 kg |
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*1喷镀速率仅供参考
*2主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂，铂-钯，金，金-钯)。
