Qpol 300 M1是一款手动单盘磨抛机，工作盘尺寸 250/300 mm. 在综合了人体工程学的触屏上，所有的过程参数以及便于手动操作的功能都清晰地显示出来并可以随时进行方便的更改。所有的过程参数都可以保存为制备

　　QATM双盘手动研磨抛光机QPOL 250 M2工作盘: 200/250 mm转速: 30-600转/分，连续可调双盘装置研磨抛光机QPOL 250 M2Qpol 250 M2是一款手动，双盘磨抛机，工作盘直径 200/250 mm。 带有亮起状态指示的开始/停止开关及带刻度和集成加速按钮的转向开关可以直观地操作手动设备。甩干功能（加速清洁) 在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟后关闭设备，有助于磨抛盘脱水。 尤其强大的速度控制驱动器使得该型号对所有工作步骤皆可实施应用。此外，工作盘可顺时针/

　　QATM单盘手动研磨抛光机QPOL 250 M1工作盘: 200/250 mm转速: 30-600转/分，连续可调单盘装置QATM研磨抛光机QPOL 250 M1Qpol 250 M1是一款手动，单盘磨抛机，工作盘直径 200/250 mm。 带有亮起状态指示的开始/停止开关及带刻度和集成加速按钮的转向开关可以直观地操作手动设备。甩干功能（加速清洁) 在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟后关闭设备，有助于磨抛盘脱水。 尤其强大的速度控制驱动器使得该型号对所有工作步骤皆可实施应用。此外，工作盘可

　　QATM手动研磨抛光机QPOL 200 M工作盘: 200 mm转速: 20 - 600 rpm, 连续可调Qpol 200 M是一款用于金相制备的手动单盘磨抛机,工作盘直径为200 mm。耐冲击塑料內槽，采用粉末涂层的铝制外壳及设备内部的高标准技术，赋予了其安静、平稳运行的特点及佳的制备结果。QATM磨抛机Qpol 200 M特点：单盘研磨/抛光机速度可调磨盘脱水旋转功能（清洁加速）快速，便捷且无需工具的磨盘更换通过抬起工作盘，可轻松清洁/冲洗底槽铝制外壳，粉末涂层抗撞击塑料内槽手动水电磁阀内槽冲洗软

　　QATM预磨机QGRIND 100/XL1、砂带预磨机QGRIND 100初的研磨步骤，是为了去除样品表面的变形层，并得到一个平面。砂带机Qgrind 100非常适合用于去除样品表面的毛刺和磨平样品。砂带预磨机QGRIND 100干式/湿式砂带预磨机两个研磨带用于不同颗粒的砂纸砂带尺寸: 100 x 920 mm研磨带更换容易Qgrind100是一款稳定的湿式双砂带预磨机，主要用于打磨毛刺或预磨样品或其他材料。可同时使用两种不同粒度的砂带。产生的废屑由供水系统排出。特点：双砂带预磨机水冷手动调整砂带中心砂

　　1.中心加载力方式，一次性固定六个样品，完成全部研磨抛光过程，磨抛出各个样品的完整平面2.独立控制磨抛盘和样品盘：转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数；3.触摸屏界面：磨抛参数设定方便，状态显示直观，操作简单；4.加载力可以在运行中调整，灵活方便。5.通过用电磁阀来控制水的通断。6.轻松更换磁性防粘盘，就能完成各种试样的粗、精磨及粗、精抛光等所有工序, 一盘等效于N个盘。7.精度高，运行平稳，噪音低。8.样品磨去层厚度控制：精准控制样品的磨去量，磨到指定位置 (选配);9.外部滴液器控制：外部

　　1.6个样品，独立加压。2.PLC独立控制磨抛盘和样品盘：转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数，并自动保存、方便调用；3.触摸屏界面：磨抛参数设定方便，状态显示直观，操作简单；4.磨抛盘和样品盘转动均无级变速，旋转方向可切换,PLC控制水和磨料滴入器的通断。5.3种工作模式：1)全自动模式：根据样品材料或使用者的习惯，可设置和调用：99套工艺（流程），每套工艺可含10步工序参数（每个工序对于某一步磨或抛工序工序参数：磨盘和磨头转动速度、磨抛时间……）2)单工序模式：根据每一步磨抛工序，可设置和

　　1.两个磨盘，独立电机，独立控制2.八档常用速度，每档速度可由用户自行设定,实现无级调速；3.逆时针/顺时针，一键切换，遵从操作人员习惯4.回转水管冷却可以旋转方向，调节水流量大小5.设备运行平稳、噪音低双盘双控金相磨抛机LAP-2MV参数：工作盘直径 ：标配φ230mm （选配φ203mm） 磨盘转速（r/min）：左盘： V1=150、V2=300、V3=600、V4=800（可自设定100-1000r/min）右盘：V1=300、V2=500、V3=800、V4=1000（可自设定100-1000r

　　1.一机多用，完成金相试样研磨和抛光等过程。2.双盘，每个盘分低速、高速，易于切换3.回转水管冷却可以旋转方向，水流量大小可调。4.设备运行噪音低、磨盘平整。双盘四速金相磨抛机LAP-2E参数：工作盘直径：标配φ230mm （选配φ203mm） 转速： 低速V1=300r/min、V2=500r/min 高速 V1=600r/min、V2=1000r/min 电机功率：0.37kw 电源电压：AC380V（AC220可以定制） 外形尺寸：700x710x340mm 重量：46kg

　　一机多用完成金相试样研磨和抛光等过程。-两档定速切换，操作简单方便-回转水管冷却可以旋转方向，调节水流量大小。-设备运行噪音低、磨盘平整。单盘双速金相磨抛机LAP-1E参数：工作盘直径：标配φ230mm （选配φ203mm） 转速：V1=500r/min、V2=1000r/min(可定制) 电机功率：0.37KW 电源电压：AC380V 频率：50HZ（AC220可以定制） 外形尺寸：680x360x340mm 重量：37kg

　　(多点加压&中心加压) 全自动金相磨抛机LAP-1000S/LAP-2000S产品特点：1.LAP-1000S/LAP-2000S 全自动单、双盘金相磨抛机, 同时支持：→多个样品独立加载→样品盘中心加载，一次性固定六（可定制8个样品）个样品，完成全部研磨抛光过程，磨抛出各个样品的完整平面2.磨抛盘和样品盘：设置和运行转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数，并自动保存、方便调用；3.采用PLC + 1KW高功率电机4.采用两个（LAP-1000S为单电机）独立的1KW高功率电机扭矩大，无

　　金相磨抛机LAP-2SE/LAP-2S产品特点：1.采用PLC+高功率电机，双磨抛盘；2.采用两个（LAP-2SE为单电机）独立的1KW高功率电机扭矩大，无论转速快慢，扭矩大且恒定；3.速度范围广，从5转/分钟到1000转/分钟(最大1500转/分钟);4.转盘快速启停，转盘2秒即可停止转动;5.转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数，并自动保存、方便调用；6.手动模式，四挡；7.64种自动工序；8.12种常用材料磨抛工艺；9.进口PLC品牌，质量可靠；10.触摸屏界面,磨抛参数设定方便；1