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热门关键词:碳硫分析仪 显微镜 硬度计 氧氮氢分析仪 光谱仪 试验机
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  •   蔡司LSM 900激光扫描共聚焦显微镜(CLSM)是一台用于材料分析的仪器,可在实验室或多用户设施中表征三维微观结构和表面形貌。LSM 900可对纳米材料、金属、聚合物和半导体进行三维成像和分析。将蔡司Axio Imager.Z2m正置式全自动光学显微镜或蔡司Axio Observer 7倒置式显微镜装上LSM 900共聚焦扫描头,同时具有所有的光学显微镜观察模式,以及高精度的共聚焦表面三维成像模式,您可轻松将所有功能集于一身。这些功能的使用无需切换显微镜,您将可以进行原位观察,节省大量的时间。自动化也会

  •   奥林巴斯激光共焦显微镜采用了较佳光学系统,可通过非破坏观察法生成高画质的图像并进行JQ的3D测量。其准备操作也非常简单且无需对样本进行预先处理。具有高精度和光学性能的LEXT™OLS5100激光扫描显微镜配备了让系统更加易于使用的智能工具。其能够快速完成亚微米级形貌和表面粗糙度的测量任务,既简化了工作流程又能让您获得可信赖的高质量数据。LEXT™ OLS5100 3D激光扫描显微镜用于材料分析的激光显微镜更智能的工作流程,更快速的实验设计适用于故障分析和材料工程研究的OLS5100激光显微镜将测量精度和光

  •   EVO系列将高性能的扫描电镜和直观的、友好的用户界面体验结合在一起,同时能够吸引经验丰富的用户以及新用户。无论是在生命科学, 材料科学, 或例行的工业质量力求和失效分析领域,凭借广泛的可选配置, EVO 都可以根据您的要求量身定制。显微镜中心或工业质量力求实验室的多功能解决方案不同的真空室大小和可满足所有应用要求的载物台选项-甚至是大型工业零部件样品使用LaB6灯丝,能够得到更优的图像质量对不导电和无导电涂层的样品的成像和分析性能出色可以配置多种分析探测器用于满足各种显微分析应用的需求蔡司电镜|EVO系列

  •   利用成熟的 Gemini 电子光学元件,将佳的分析性能与场发射扫描技术相结合。多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间:设置成像与分析步骤,提率。Sigma300 性价比高。Sigma 500 装配有背散射几何探测器,可快速方便地实现基础分析。样品均可获得更精准可重复的分析结果。蔡司场发射扫描电镜Sigma系列落地式扫描电子显微镜特点:l用于清晰成像的灵活探测*利用探测术为您的需求定制 Sigma,表征所有样品。*利用 in-lens 双探测器获取形貌

  •   CUBE系列台式扫描电镜是一款紧凑型桌面扫描电子显微镜。区别于传统扫描电镜的笨重机身,CUBE系列占地面积小,便携性能好,无需特殊安装环境,用户可遵照客户服务指南任意移动SEM设备,节约空间成本。中心倾斜对于3D重构功能至关重要,CUBE系列提供马达驱动多功能样品台,可进行XYZ运动切换,方便用户轻松找到理想检测区域。并且CUBE系列拥有自动拍摄功能与图片自动拼接功能,快速获取所需要的质量信息,自动化操作减少人为失误。CUBE系列台式扫描电镜特点:高分辨率,与落地式SEM一样优异高空间利用率和便携性,易于

  •   国产电镜|钨灯丝扫描电子显微镜|EM69系列钨灯丝扫描电镜产品特点:兼容低真空模块丰富的自动化功能支持定制化选配多功能超大样品仓大视野导航相机拓展丰富技术参数:分辨率——EM6910/6920 SE:3nm@30kV,8nm@3kV; BSE :4nm@30kV(选配)样品台——EM6910 五轴自动中样品台,EM6920 五轴自动大样品台加速电压——EM6910/6920 0.2kV-30kV探测器——EM6910/6920 二次电子探测器、半导体四分割背散射探测器(选配)、红外 CCD、低真空二次

  •   EM80系列场发射扫描电镜_EM8010/8020场发射扫描电子显微镜产品特点:肖特基场发射电子枪多级高性能透镜系统束流稳定性高可定制超大样品仓操作简便拓展性丰富 性价比高应用领域:材料科学、生物学、医学、化学、环境科学等多个领域。技术参数:分辨率——EM8010/8020 SE 1.5nm@15kV;BSE 3nm@30kV(选配)放大倍数——EM8010 1x-600000x 光学放大 1x-100x(选配)EM8020 1x-600000x 光学放大 1x-100x电子枪——EM8010/

  •   场发射扫描电镜EM8100产品特点:亚纳米级分辨率低像差锥形物镜大束流自动化控制系统超大样品仓镜筒加速技术场发射扫描电子显微镜EM8100应用领域:EM8100高分辨场发射扫描电子显微镜,采用镜筒加速技术、低像差锥形物镜等全新电子光学设计,能够在低电压下实现亚纳米级的成像效果,对各类材料具有广泛的适用性,能够满足多种科研和工业领域的测试需求。场发射扫描电镜EM8100技术参数:分辨率——SE 0.9nm@30kV放大倍数——1x-3000000x,光学放大1x-100x电子枪——Schottky 肖特基场

  •   EM8200超高分辨场发射扫描电镜产品特点:新一代低像差物镜、减速样品台、低压高分辨成像低噪声Inlens探测器自动推入式背散射探测器全新的用户界面设计丰富的软件测量功能应用领域:EM8200超高分辨场发射扫描电子显微镜,采用全新电子光学设计,基于减速样品台、新一代低像差物镜、Inlens探测器等技术,集成丰富的图像处理功能,为新能源、半导体等用户提供全新解决方案。技术参数:分辨率——SE 0.8nm@15kV、1.5nm@1kV放大倍数——1x-1600000x;光学放大 1x-100x电子枪——Sch

  •   随着快速数据采集和数据处理技术的发展,电子显微镜进入了一个不仅重视数据质量,而且重视其采集过程的时代。SU8600系列秉承了Regulus8200系列的图像、大束流分析及长时间稳定运行的冷场成像技术,同时还大大提升了高通量、自动数据获取能力。*设备照片包含选配项。日立场发射扫描电子显微镜SU8600系列特点:★高分辨成像日立的高亮度电子源可力求了即使在低着陆电压下,也可获得高分辨的图像。★高衬度的低加速电压背散射图像3D NAND截面观察;在低加速电压条件下,背散射电子信号能够明显的显示出氧化硅层和氮化硅

  •   SU7000不仅可以在低加速电压下获得高画质图像,而且还可以同时接收多种信号。此外,它还具备大视野观察、In-Situ观察等FE-SEM的众多优异良能。SU7000是一台实现了获取大量信息的新型扫描电镜,可以满足客户的多种观察需求。接下来请欣赏SU7000带来的多彩世界。*图为包含选配项的SU7000示意图日本日立高分辨肖特基场发射扫描电镜SU7000核心理念:1.采用优的成像技术SU7000可以迅速获取从大视野全貌图到表面微细结构等多种检测信号。全新设计的电子光学系统和检测系统,使得装置可以同时接收二次

  •   电子显微镜(EM)品牌进口|HITACHI日立扫描电子显微镜|SU5000热场式场发射扫描电镜特点:▲高性能电子光学系统二次电子分辨率: 顶位二次电子探测器(2.0 nm at 1kV)*高灵敏度: PD-BSD, 强的低加速电压性能,低至100 V成像大束流(>200 nA): 便于微区分析▲性能优良压力可变: 具有优异的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配备高灵敏度低真空探测器(UVD)*开仓室快速简单换样(大样品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)微区分析: EDS, WDS,

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